鎳釋放參考片（標(biāo)準(zhǔn)片，校準(zhǔn)盤）每次使用都要打磨，目的是去掉氧化層和表面的吸附沉積物，參考片每次打磨后可以重新使用，新的EN 1811-2011標(biāo)準(zhǔn)中明確說了只能用一次（如果只使用一次確實(shí)成本高，太浪費(fèi)），從之前反復(fù)打磨測(cè)試的數(shù)據(jù)來看是符合要求的。每次打磨掉大概0.1mm的厚度再進(jìn)行前處理測(cè)試，理論上每片參考片可以使用5次。

鎳釋放參考片（標(biāo)準(zhǔn)片，校準(zhǔn)盤）的理論釋放值是0.19-0.49ug/cm2/week，實(shí)際測(cè)試中這個(gè)數(shù)值每次都不是固定的，常見的情況是數(shù)值偏低，這種情況下可以通過把參考片打磨得更均勻，看看乳酸的純度是否是90%的，PH值調(diào)低一些等原因去進(jìn)行調(diào)整，只要按程序操作把數(shù)值做到標(biāo)準(zhǔn)的范圍內(nèi)是不難的。

鎳釋放參考片（標(biāo)準(zhǔn)片，校準(zhǔn)盤）的釋放速率是每周的釋放量應(yīng)算一周的平均釋放速率。

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